装置名	X線光電子分光装置 ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)
機種名	ULVAC-Phi製　PHI5000 Versa Probe II
原理	固体表面にX線を照射すると、光電効果によって電子（光電子）が固体表面より放出されます。この光電子の持つエネルギーは、そのX線のエネルギーから仕事関数と光電子が原子核によって束縛されていたエネルギー（Binding Energy, BE）を差し引いた値になります。またBEは、光電子がもともと存在していた元素（原子核）や軌道によってほぼ決まった値をとります。 　よって、光電子数のエネルギー分布を測定することで、そのピークの位置（や組み合わせ）から固体表面中に存在する元素の種類や、ピークの面積比からそれらの元素の存在比率が測定できます。また、ピークの位置の僅かなずれから各元素の価数や置換基の種類を推定できます。
特徴	測定範囲は 9 μmφ 〜 200 μmφ です。 通常の点分析はもとより、線分析、面分析が可能です。
用途	酸素プラズマで親水化処理を施したポリマー表面や、プラズマ重合によって形成した重合膜の表面分析。 触媒粉体上へ展開した金属原子の量や価数の分析。 層形成した高分子膜の厚み方向の分析。
運用	測定は、講習会を受講したものによる自己測定で行っています。 講習会は年に一度、開催しています。